公明工厂高价回收进口连接器 进口全系列模块回收
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工作原理
光刻机的工作原理是利用光学的聚焦和投影技术,将芯片设计图案通过光源、掩膜和透镜系统高度**地转移到硅片表面。这个过程可以分为:准备掩膜、显影光刻胶、曝光和显影等几个步骤。
具体来说,当光源照射到掩膜上时,掩膜会选择性地阻挡或透过光线,形成所需的芯片图案。然后,透镜系统将光线聚焦到硅片上,图案通过光刻胶传递到硅片表面。然后,进行显影处理,将未曝光的光刻胶去除,留下所需的芯片图案。